ENTWICKLER
Nach der Belichtung liegt die spätere Lackmaske als latentes Bild im Fotolack vor: Die belichteten Bereiche unterscheiden sich chemisch von den nicht belichteten Stellen. Die Aufgabe der Entwicklung ist es, entweder die belichteten (bei Positivlacken) oder unbelichteten (bei Negativlacken) Lackbereiche aufzulösen, wodurch aus dem latenten Bild die fertigen Lackstrukturen entstehen.
Auswahlkriterien für Entwickler
Zunächst ist zu klären, ob metallionenfrei mit fertigen Ansätzen (metal-ion-free, MIF) entwickelt werden muss/soll oder metallionenhaltig (metal-ion-containing, MIC) mit zu verdünnenden Konzentraten entwickelt werden darf.
Das
nächste Auswahlkriterium für einen Entwickler ist die Kompatibilität
zum jeweiligen Fotolack (siehe Tabelle unten) bzw. zum verwendeten
Substratmaterial.
Das nächste Auswahlkriterium ist die Kompatibilität des Entwicklers mit
einem bestimmten Fotolack oder/ und einem bestimmten Substratmaterial
(siehe Tabelle).
Weitere Informationen:
AZ 2026 MIF Developer - 5.00 l
1002026
AZ® 2026 MIF Developer
Metallionenfrei Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 300 MIF, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF und AZ® 2026 MIF Developer sind Developer Formulierungen mit 2,38 % TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid) in H2O.
Die AZ® 726 MIF Developer enthält zusätzlich ein Tensid zur besseren Benetzung und leichten Absetzung von Pfützenbildung. Neben einem Netzmittel für z.B. die Puddle-Entwicklung enthält
der
AZ® 2026 MIF Developer
zusätzlich ein Additiv mit der Aufgabe, schwerer lösliche
Lackbereiche rückstandsfrei zu entwickeln. Für unsere Negativresists, wie die AZ® nLof 2000 Serie, die AZ® 15nXT Serie, die AZ® 125nXT Resists zeigt dieses Developer jedoch eine hervorragende Leistung. Selbst bei positiven Resist wie AZ® 10XT Resist wird das T-Topping deutlich reduziert, wenn dieses Problem auftritt.
AZ® 2033 MIF ist 3,00 % TMAH in H2O mit zugesetzten Tensiden für eine schnelle und homogene Untergrundbenetzung und weiteren Additiven zur Entfernung von Resist Rückständen (Rückstände in bestimmten Lackfamilien), allerdings auf Kosten eines höheren Dunkelabtrag. Im Vergleich zur AZ® 2026 MIF beträgt die Normalität nicht 0,26, sondern 0,33. Somit ist die Entwicklungsrate mit der AZ® 2033 MIF Developer höher.
Weitere Informationen
MSDS:
Safety Data Sheet AZ® 2026 MIF Developer english
Sicherheitsdatenblatt AZ® 2026 MIF Developer deutsch
TDS:
Technical Data Sheet AZ® 2026 MIF Developer english
Anwednungshinweise:
Development of Photoresist english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 2033 MIF Developer - 5.00 l
1002033
AZ® 2033 MIF Developer
Metallionenfrei Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 300 MIF, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF und AZ® 2026 MIF Developer sind Developer Formulierungen mit 2,38 % TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid) in H2O.
Die AZ® 726 MIF Developer enthält zusätzlich ein Tensid zur besseren Benetzung und leichten Absetzung von Pfützenbildung. Zusätzlich zum Netzmittel der AZ® 726 MIF enthält die AZ® 2026 MIF ein scum Remover für die vollständige und scum-freie Entfernung von Resist Schichten zum Preis eines etwas höheren Dunkelabtrags.
Für unsere Negativresists, wie die AZ® nLof 2000 Serie, die AZ® 15nXT Serie, die AZ® 125nXT Resists zeigt dieses Developer jedoch eine hervorragende Leistung. Selbst bei positiven Resist wie AZ® 10XT Resist wird das T-Topping deutlich reduziert, wenn dieses Problem auftritt.
AZ® 2033 MIF ist 3,00 % TMAH in H2O mit zugesetzten Tensiden für eine schnelle und homogene Substratbenetzung und weiteren Additiven zur Entfernung von Resist Rückständen (Rückstände in bestimmten Lackfamilien), allerdings auf Kosten eines höheren Dunkelabtrag. Im Vergleich zur AZ® 2026 MIF beträgt die Normalität nicht 0,26, sondern 0,33. Somit ist die Entwicklungsrate mit der AZ® 2033 MIF Developer höher.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 2033 MIF Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 2033 MIF Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 2033 MIF Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 300 MIF Developer - 5.00 l
1000300
AZ® 300 MIF Developer
Metallionenfrei Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 300 MIF, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF und AZ® 2026 MIF Developer sind Developer Formulierungen mit 2,38 % TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid) in H2O.
Die AZ® 726 MIF Developer enthält zusätzlich ein Tensid zur besseren Benetzung und zum leichten Absetzen der Pfützenbildung. Zusätzlich zum Netzmittel der AZ® 726 MIF enthält die AZ® 2026 MIF ein scum Remover für die vollständige und scum-freie Entfernung von Resist Schichten zum Preis eines etwas höheren Dunkelabtrags.
Für unsere Negativresists, wie die AZ® nLof 2000 Serie, die AZ® 15nXT Serie, die AZ® 125nXT Resists zeigt dieses Developer jedoch eine hervorragende Leistung. Selbst bei positiven Resist wie AZ® 10XT Resist wird das T-Topping deutlich reduziert, wenn dieses Problem auftritt.
AZ® 2033 MIF ist 3,00 % TMAH in H2O mit zugesetzten Tensiden für eine schnelle und homogene Substratbenetzung und weiteren Additiven zur Entfernung von Resist Rückständen (Rückstände in bestimmten Lackfamilien), allerdings auf Kosten eines höheren Dunkelabtrag. Im Vergleich zur AZ® 2026 MIF beträgt die Normalität nicht 0,26, sondern 0,33. Somit ist die Entwicklungsrate mit der AZ® 2033 MIF Developer höher.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 300 MIF Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 300 MIF Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 300 MIF Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 303 Developer - 5.00 l
1000303
AZ® 303 Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 303 MIC basiert auf KOH und NaOH und enthält starke Tenside. Es wurde für Positiv- und wässrige alkaliverträgliche Negativlacke entwickelt, kann aber auch für AZ® nLof 20XX Serie verwendet werden und ist das einzige TMAH-freie Developer für diese Resist. AZ® 303 Developer wird normalerweise 1:5 - 1:10 mit Wasser verdünnt.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 303 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 303 Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 303 Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 326 MIF Developer - 5.00 l
1000326
AZ® 326 MIF Developer
Metallionenfrei Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 300 MIF, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF und AZ® 2026 MIF Developer sind Developer Formulierungen mit 2,38 % TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid) in H2O.
Die AZ® 726 MIF Developer enthält zusätzlich ein Tensid zur besseren Benetzung und leichten Absetzung von Pfützenbildung. Zusätzlich zum Netzmittel der AZ® 726 MIF enthält die AZ® 2026 MIF ein scum Remover für die vollständige und scum-freie Entfernung von Resist Schichten zum Preis eines etwas höheren Dunkelabtrags.
Für unsere Negativresists, wie die AZ® nLof 2000 Serie, die AZ® 15nXT Serie, die AZ® 125nXT Resists zeigt dieses Developer jedoch eine hervorragende Leistung. Selbst bei positiven Resist wie AZ® 10XT Resist wird das T-Topping deutlich reduziert, wenn dieses Problem auftritt.
AZ® 2033 MIF ist 3,00 % TMAH in H2O mit zugesetzten Tensiden für eine schnelle und homogene Substratbenetzung und weiteren Additiven zur Entfernung von Resist Rückständen (Rückstände in bestimmten Lackfamilien), allerdings auf Kosten eines höheren Dunkelabtrag. Im Vergleich zur AZ® 2026 MIF beträgt die Normalität nicht 0,26, sondern 0,33. Somit ist die Entwicklungsrate mit der AZ® 2033 MIF Developer höher.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 326 MIF Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 326 MIF Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 326 MIF Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 340 Developer - 5.00 l
1000340
AZ® 340 Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 340 Developer ist ein hochnormales Konzentrat auf Natriumbasis Developer für den Einsatz in kundenspezifischen Verdünnungsanwendungen vor Ort. Dieses Developer Konzentrat ist gepuffert, um eine längere Badlebensdauer und stabile Entwicklungsraten in Batch-Prozessen zu gewährleisten. Verdünne das Konzentrat mit 1 Teil AZ® 340 Developer auf 4 Teile VE-Wasser, um einen hohen Kontrast zu erzielen. Developer Normalität (und Entwicklungsrate) können bei Bedarf erhöht werden, indem das Verhältnis AZ® 340 Developer zu Wasser erhöht wird.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 340 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 340 Developer deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 340 Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 351 B Developer - 5.00 l
1000351
AZ® 351B Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 351B Developer basiert auf gepuffertem NaOH und wird normalerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung (1 Teil Konzentrat und 4 Teile VE-Wasser) verwendet. die 1:3-Verdünnung ist die Hochgeschwindigkeitslösung, während die 1:4-Verdünnung für eine Hochkontrastlösung verwendet wird. Es kann besonders für unsere dünneren Resist Typen verwendet werden, wie z.B. AZ® 1500 Serie Resists oder Bildumkehrresists wie AZ® 5200E Resist Serie.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 351B Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 400 K Dev 1:4 - 5.00 l
1004145
AZ® 400K Developer 1:4
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
Neben dem Konzentrat ist jetzt auch eine vorverdünnte AZ® 400K 1:4 Version erhältlich, andere Verdünnungsverhältnisse auf Anfrage.
AZ® 400K MIC Developer basiert auf gepufferter KOH und wird typischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung (1 Teil Konzentrat und 4 Teile DI-Wasser) verwendet und kann vor allem für unsere dickeren Resist Typen, wie AZ® 4562, AZ® 10XT und AZ® 40XT, verwendet werden.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Information AZ® 400K 1:4 Developer deutsch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 400 K Developer - 5,00 l
1000400
AZ® 400K Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 400K MIC basiert auf gepufferter KOH und wird in der Regel in einer Verdünnung von 1:3 bis 1:4 (1 Teil Konzentrat und 4 Teile VE-Wasser) verwendet. Es eignet sich besonders für unsere dickeren Resist Typen, wie AZ® 4562, AZ® 10XT und AZ® 40XT. Zusätzlich zum Konzentrat ist jetzt auch eine vorverdünnte AZ® 400K 1:4 Version erhältlich, andere Verdünnungsverhältnisse auf Anfrage.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 400K Developer englisch
Informationen AZ® 400K Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 726 MIF Developer - 5.00 l
1000726
AZ® 726 MIF Developer
Metallionenfrei Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 300 MIF, AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF und AZ® 2026 MIF Developer sind Developer Formulierungen mit 2,38 % TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid) in H2O.
Die AZ® 726 MIF Developer enthält zusätzlich ein Tensid zur besseren Benetzung und leichten Absetzung von Pfützenbildung. Neben einem Netzmittel für z.B. die Puddle-Entwicklung enthält der
AZ® 2026 MIF Developer
zusätzlich ein Additiv mit der Aufgabe, schwerer lösliche Lackbereiche rückstandsfrei zu entwickeln.
Für unsere Negativresists, wie die AZ® nLof 2000 Serie, die AZ® 15nXT Serie, die AZ® 125nXT Resists zeigt dieses Developer jedoch eine hervorragende Leistung. Selbst bei positiven Resist wie AZ® 10XT Resist wird das T-Topping deutlich reduziert, wenn dieses Problem auftritt.
AZ® 2033 MIF ist 3,00 % TMAH in H2O mit zugesetzten Tensiden für eine schnelle und homogene Substratbenetzung und weiteren Additiven zur Entfernung von Resist Rückständen (Rückstände in bestimmten Lackfamilien), allerdings auf Kosten eines höheren Dunkelabtrag. Im Vergleich zur AZ® 2026 MIF beträgt die Normalität nicht 0,26, sondern 0,33. Somit ist die Entwicklungsrate mit der AZ® 2033 MIF Developer höher.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 726MIF Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 726MIF Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 726MIF Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ Developer - 5.00 l
1000001
AZ® Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® Developer ist für einen minimalen Al-Angriff optimiert. Es ist eine geruchlose, wässrige, anorganische, alkalische Lösung, die mit Batch- und Inline-Entwicklungsprozessen kompatibel ist. Sie wird in der Regel 1:1 in DI-H2O verdünnt angewendet, um einen hohen Kontrast zu erzielen, oder unverdünnt, um eine hohe Entwicklungsrate zu erreichen. Der Dunkelabtrag von AZ® Developer ist im Vergleich zu anderen Developer etwas höher. AZ® Developer kann in Kombination mit den meisten AZ® Fotolacken verwendet werden (d.h. AZ® 1500, AZ® ECI3000 und AZ® 4500 oder AZ® PL177). AZ® Developer weist von allen AZ® Developer - Typen die niedrigste Aluminium-Ätzrate auf (sie ist mehr oder weniger gleich Null!) und ist ideal für Metallebenen.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ Developer 1:1 - 5.00 l
1000115
AZ® Developer 1:1
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® Developer 1:1 ist ein gebrauchsfertiges Produkt und ist eine 1:1 Verdünnung von AZ Developer. Die Developer ist für einen minimalen Al-Angriff optimiert. Es ist eine geruchlose, wässrige, anorganische, alkalische Lösung, die mit Batch- und Inline-Entwicklungsprozessen kompatibel ist. AZ® Developer 1:1 ist für hohen Kontrast. Der Dunkelabtrag von AZ® Developer 1:1 ist im Vergleich zu anderen Developer etwas höher. AZ® Developer 1:1 kann in Kombination mit den meisten AZ® Fotolacken verwendet werden (z. B. AZ® 1500, AZ® ECI3000 und AZ® 4500 oder AZ® PL177). AZ® Developer 1:1 weist von allen AZ® Developer 1: 1 Typen die niedrigste Aluminium-Ätzrate auf (sie ist mehr oder weniger Null!) und ist ideal für Metallebenen.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer 1:1 englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer 1:1 deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® Developer 1:1 englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch