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PGMEA - 5.00 l - ULSI

PGMEA is the main solvent of almost all our photoresists and can be used for dilution and edge bead removal.

Produktinformationen "PGMEA - 5.00 l - ULSI"

PGMEA

1-Methoxy-2-propyl-acetat

Allgemeine Informationen

PGMEA ist das Hauptlösungsmittel/Verdünnungsmittel für fast alle AZ® und TI-Fotoresists, da es einen niedrigen Dampfdruck hat und die Partikelbildung in der (weiter verdünnten) Resist unterdrückt. Darüber hinaus wird PGMEA häufig zum Entfernen von Randwülsten verwendet, da sein niedriger Dampfdruck eine weitere Verdünnung des beschichteten Resist Films verhindert.

Produkteigenschaften
  • Dichte: 0,97 g/cm3
  • Schmelzpunkt: -66°C
  • Siedepunkt: 125°C
  • Flammpunkt: 45°C
  • Dampfdruck @ 20°C: 5 hPa

PGMEA Molecule

PGMEA Molekül

Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt PGMEA (ULSI) englisch
Sicherheitsdatenblatt PGMEA (ULSI) deutsch

Specs:
Technische Daten PGMEA (ULSI)

Anwendungshinweise:
Lösungsmittel: Theorie und Anwendung english
Lösemittel: Theorie und Anwendung deutsch

Weitere Informationen zur Verarbeitung

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