Hexamethyldisilazan - HMDS - 1,00 l - VLSI - EUD/EVE!

HMDS

Förderung der Adhäsion

Allgemeine Informationen

HMDS (HexaMethylDiSilazan) ist ein metallionenfreier Haftvermittler zwischen dem Substrat und dem Fotolack, der aus der Gasphase auf erhitzte Substrate aufgebracht wird und sich dadurch chemisch mit der Substratoberfläche verbindet.

Wie HMDS funktioniert

Auf wasserfreien Oberflächen bindet das HMDS sein Si-Atom chemisch an den Sauerstoff der oxidierten Oberflächen, wobei Ammoniak (NH3) freigesetzt wird. Die Methylgruppen des HMDS-Fragments bilden dadurch eine hydrophobe Oberfläche und verbessern so die Resist Benetzung und Haftung.

Wie man HMDS anwendet

Die richtige Anwendung von HMDS ist sehr wichtig, um die Resist Haftung nicht weiter zu verschlechtern: In einem sogenannten Bubbler wird wasserfreier Stickstoff bei Raumtemperatur mit HMDS-Dampf gesättigt. Das N2 + HMDS strömt auf das erhitzte (75 - 120°C), wasserfreie Substrat und bildet dabei eine dünne Schicht aus chemisch gebundenen Si(CH3)3-Gruppen, die für die gewünschten hydrophoben Eigenschaften verantwortlich sind.

Wie man HMDS nicht aufträgt

Beim Spin-Coating bildet sich ein dicker (=mehr als eine Monolage) HMDS-Film auf der Oberfläche, ohne dass Wasser verdrängt wird und ohne dass es zu einer chemischen Bindung kommt. Nach Resist Beschichtung während des Softbake setzt dieser HMDS-Überschuss Ammoniak frei, der in die Resist diffundiert und das Harz in der Nähe des Substrats vernetzt. Infolgedessen wird die Durchentwicklung manchmal unmöglich.
Aus demselben Grund darf HMDS NIEMALS in einem Spin Coater aufgetragen werden. HMDS-Dampf diffundiert in alle Resist Filme, die anschließend beschichtet werden, und vernetzt den Resist Film während des Softbake teilweise, was die Entwicklungsrate senkt und das Resist Profil und die erreichbare Auflösung verschlechtern kann.

Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt HMDS (VLSI) englisch
Sicherheitsdatenblatt HMDS (VLSI) deutsch

Specs:
Technische Daten HMDS (VLSI)

Anwendungshinweise:
Substratreinigung und -haftung englisch
Substrat Reinigung und Haftung deutsch

Weitere Informationen zur Verarbeitung