AZ Barli II 90 - 3.785 l

AZ® BARLi™ II 200 Antireflexionsbeschichtung Allgemeine Informationen AZ® BARLi™ II 200 ist eine untere Antireflexionsschicht für den Einsatz auf stark reflektierenden Oberflächen in der Halbleiterindustrie. Sie wurde als Antireflexionsschicht zwischen Fotolack und dem Substrat entwickelt und ist für i-line Belichtungsgeräte optimiert. Nach Abschluss des lithografischen Prozesses wird AZ® BARLi™ II 200 in einem Trockenätzverfahren strukturiert. Produkt-Eigenschaften AZ® BARLi™ II 200 Beschichtungsmaterial ist in Fotolack-kompatiblen Lösungsmitteln formuliert, um den EBR-Prozess zu vereinfachen und sowohl umwelt- als auch benutzerfreundlich zu sein. AZ® BARLi™ II 200 ist maßgeschneidert, um die nahezu optimalen Werte für die Brechungsindizes (n und k) für die i-Lithografie zu erzielen, was eine minimale Reflektivität und maximale Schwingungsreduzierung für Fotolack Schichten gewährleistet. Dieses Material besteht aus hochabsorbierenden, polymergebundenen Farbstoffen und bietet eine hervorragende Beschichtungsgleichmäßigkeit und Stufenabdeckung. AZ® BARLi™ II 200 zeigt eine hohe Ätzselektivität (vergleichbar mit AZ® BARLi™ II 200 ) und eine hohe thermische Stabilität bis zu 230°C. Es zeigt keine Vermischung mit Fotolack, wenn die Backtemperatur über 180°C liegt.  AZ® BARLi™ II 200 ist in zwei Dickenstufen erhältlich, 900 A und 2000 A, um eine optimale Schichtdicke für das erste bzw. zweite Swing-Minimum bei einer Schleuderdrehzahl von etwa 3000 U/min zu erreichen. Developer Keine Einschränkung. Entferner Trockenes Ätzen. Randwulstentfernung Wir empfehlen AZ® EBR 70/30 für die Entfernung von Randwülsten, um die beste Leistung zu erzielen. Weitere Informationen MSDS: Sicherheitsdatenblatt AZ® BARLi™ II 200 Fotolack englisch Sicherheitsdatenblatt AZ® BARLi™ II 200 Fotolack deutsch TDS: Technisches Datenblatt AZ® BARLi™ II 200 Fotolack englisch Info AZ® BARLi™ II 200 Fotolack englisch Info AZ® BARLi™ II 200 Verarbeitung english Anwendungshinweise: Weitere Informationen über Fotolack Verarbeitung

AZ Aquatar ®-VIII A 45 Antireflexionsbeschichtung Allgemeine Informationen AZ® Aquatar -VIII A45 ist eine Antireflexbeschichtung der obersten Schicht für die Verwendung mit g- und i-line. AZ® Aquatar -VIII A45 wirkt wie eine optische Beschichtung an der Schnittstelle Fotodruck/Luft und verbessert den Bildkontrast. Auch Mehrfachreflexionen innerhalb der Fotolack werden unterdrückt, das Ergebnis ist in der Regel eine Reduzierung der Amplitude der Schwingungskurve auf 1/3. Die Anwendung ist sehr einfach: Sie wird einfach auf die Fotolack aufgeschleudert, es ist kein zusätzlicher Bake-Zyklus erforderlich und der Standard-Entwicklungszyklus entfernt sie. Dieses einfache Verfahren reduziert die Schwankungen der Linienbreite über die Topografie erheblich, unterdrückt jedoch keine reflektierenden Kerben. Produkteigenschaften AZ® Aquatar -VIII A45 Top-Antireflexbeschichtung ist ein wässriges Material zur Verwendung mit Positiv-Fotoresists in der Halbleiterindustrie. Die Antireflexbeschichtung bewirkt, dass die Amplitude der Resist Schwingungskurve drastisch reduziert wird. Wenn sie optimiert wird, kann die Amplitude der Schwingungskurve um bis zu einem Faktor drei reduziert werden. Die optimale Schichtdicke kann mit der folgenden Funktion berechnet werden: Filmdicke=lambda : 4n lambda=Wellenlänge des Belichtungslichts n=Brechungsindex von AZ® Aquatar Nach der Belichtung wird die obere Antireflexbeschichtung von AZ® Aquatar entweder mit Wasser oder mit dem wässrigen Positiv Resist Developer selbst entfernt. Sobald die Antireflexbeschichtung entfernt ist, entwickelt sich die Resist wie gewohnt. Ein optimierter Prozess wird bestätigt, wenn die ursprüngliche Resist Schwingungskurve genau um 180° phasenverschoben zu der veränderten Schwingungskurve ist, die sich aus der Verwendung der AZ® Aquatar Top-Antireflexionsschicht ergibt. Wenn dies nicht der Fall ist, wird die Schwingungskurve zwar immer noch deutlich reduziert, aber nicht in demselben Ausmaß wie bei einem vollständig optimierten Verfahren. Bei Verwendung von AZ® i-Linien-Fotoresists wird die Bildverzerrung, die sich normalerweise als Größenunterschied zwischen dichten und isolierten Linien zeigt, drastisch auf Werte nahe 0 % reduziert. Eine obere Antireflexbeschichtung kann die reflektierende Kerbe, die durch das vom Substrat reflektierte Licht entsteht, nicht verringern. Für diese Prozesssituation wird eine untere Antireflexionsbeschichtung, AZ® Aquatar, AZ® Barli, wird empfohlen. Developer Alle wässrigen alkalischen Developer. Entferner Nicht erforderlich, wasserlöslich. Ausdünnen/Randwulstentfernung Nicht erforderlich, wasserlöslich. Weitere Informationen MSDS: Sicherheitsdatenblatt AZ® Aquatar -VIII A45 Fotolack englisch Sicherheitsdatenblatt AZ® Aquatar -VIII A45 Fotolack deutsch TDS: Technisches Datenblatt AZ® Aquatar Fotolack englisch Technisches Datenblatt AZ® Aquatar TARC deutsch Info AZ® Aquatar DE Anwendungshinweise: Weitere Informationen über Fotolack Verarbeitung