AZ AQUATAR-VIII-A 45 - 3.785 l
Produktinformationen "AZ AQUATAR-VIII-A 45 - 3.785 l"
AZ Aquatar ®-VIII A 45
Antireflexionsbeschichtung
Allgemeine Informationen
AZ® Aquatar -VIII A45 ist eine Antireflexbeschichtung der obersten Schicht für die Verwendung mit g- und i-line. AZ® Aquatar -VIII A45 wirkt wie eine optische Beschichtung an der Schnittstelle Fotodruck/Luft und verbessert den Bildkontrast. Auch Mehrfachreflexionen innerhalb der Fotolack werden unterdrückt, das Ergebnis ist in der Regel eine Reduzierung der Amplitude der Schwingungskurve auf 1/3. Die Anwendung ist sehr einfach: Sie wird einfach auf die Fotolack aufgeschleudert, es ist kein zusätzlicher Bake-Zyklus erforderlich und der Standard-Entwicklungszyklus entfernt sie. Dieses einfache Verfahren reduziert die Schwankungen der Linienbreite über die Topografie erheblich, unterdrückt jedoch keine reflektierenden Kerben.
Produkteigenschaften
AZ® Aquatar -VIII A45 Top-Antireflexbeschichtung ist ein wässriges Material zur Verwendung mit Positiv-Fotoresists in der Halbleiterindustrie. Die Antireflexbeschichtung bewirkt, dass die Amplitude der Resist Schwingungskurve drastisch reduziert wird. Wenn sie optimiert wird, kann die Amplitude der Schwingungskurve um bis zu einem Faktor drei reduziert werden. Die optimale Schichtdicke kann mit der folgenden Funktion berechnet werden:
Filmdicke=lambda : 4n
lambda=Wellenlänge des Belichtungslichts n=Brechungsindex von AZ® Aquatar
Nach der Belichtung wird die obere Antireflexbeschichtung von AZ® Aquatar entweder mit Wasser oder mit dem wässrigen Positiv Resist Developer selbst entfernt. Sobald die Antireflexbeschichtung entfernt ist, entwickelt sich die Resist wie gewohnt. Ein optimierter Prozess wird bestätigt, wenn die ursprüngliche Resist Schwingungskurve genau um 180° phasenverschoben zu der veränderten Schwingungskurve ist, die sich aus der Verwendung der AZ® Aquatar Top-Antireflexionsschicht ergibt. Wenn dies nicht der Fall ist, wird die Schwingungskurve zwar immer noch deutlich reduziert, aber nicht in demselben Ausmaß wie bei einem vollständig optimierten Verfahren. Bei Verwendung von AZ® i-Linien-Fotoresists wird die Bildverzerrung, die sich normalerweise als Größenunterschied zwischen dichten und isolierten Linien zeigt, drastisch auf Werte nahe 0 % reduziert. Eine obere Antireflexbeschichtung kann die reflektierende Kerbe, die durch das vom Substrat reflektierte Licht entsteht, nicht verringern. Für diese Prozesssituation wird eine untere Antireflexionsbeschichtung, AZ® Aquatar, AZ® Barli, wird empfohlen.
Developer
Alle wässrigen alkalischen Developer.
Entferner
Nicht erforderlich, wasserlöslich.
Ausdünnen/Randwulstentfernung
Nicht erforderlich, wasserlöslich.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® Aquatar -VIII A45 Fotolack englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® Aquatar -VIII A45 Fotolack deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® Aquatar Fotolack englisch
Technisches Datenblatt AZ® Aquatar TARC deutsch
Info AZ® Aquatar DE
Anwendungshinweise:
Weitere Informationen über Fotolack Verarbeitung
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