AZ 400 K Developer - 5,00 l
Merck Performance Materials GmbH
AZ® 400K Developer is a buffered, KOH based developer formulation for many positive and image reversal resists.
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Produktnummer:
1000400
Hersteller:
Merck Performance Materials GmbH
Produktinformationen "AZ 400 K Developer - 5,00 l"
AZ® 400K Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 400K MIC basiert auf gepufferter KOH und wird in der Regel in einer Verdünnung von 1:3 bis 1:4 (1 Teil Konzentrat und 4 Teile VE-Wasser) verwendet. Es eignet sich besonders für unsere dickeren Resist Typen, wie AZ® 4562, AZ® 10XT und AZ® 40XT. Zusätzlich zum Konzentrat ist jetzt auch eine vorverdünnte AZ® 400K 1:4 Version erhältlich, andere Verdünnungsverhältnisse auf Anfrage.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 400K Developer englisch
Informationen AZ® 400K Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
| Developer Type: | inorganic, metal ion containing (MIC) |
|---|
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Allgemeine Informationen
AZ® Developer ist für einen minimalen Al-Angriff optimiert. Es ist eine geruchlose, wässrige, anorganische, alkalische Lösung, die mit Batch- und Inline-Entwicklungsprozessen kompatibel ist. Sie wird in der Regel 1:1 in DI-H2O verdünnt angewendet, um einen hohen Kontrast zu erzielen, oder unverdünnt, um eine hohe Entwicklungsrate zu erreichen. Der Dunkelabtrag von AZ® Developer ist im Vergleich zu anderen Developer etwas höher. AZ® Developer kann in Kombination mit den meisten AZ® Fotolacken verwendet werden (d.h. AZ® 1500, AZ® ECI3000 und AZ® 4500 oder AZ® PL177). AZ® Developer weist von allen AZ® Developer - Typen die niedrigste Aluminium-Ätzrate auf (sie ist mehr oder weniger gleich Null!) und ist ideal für Metallebenen.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch
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Allgemeine Informationen
Neben dem Konzentrat ist jetzt auch eine vorverdünnte AZ® 400K 1:4 Version erhältlich, andere Verdünnungsverhältnisse auf Anfrage.
AZ® 400K MIC Developer basiert auf gepufferter KOH und wird typischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung (1 Teil Konzentrat und 4 Teile DI-Wasser) verwendet und kann vor allem für unsere dickeren Resist Typen, wie AZ® 4562, AZ® 10XT und AZ® 40XT, verwendet werden.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Information AZ® 400K 1:4 Developer deutsch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
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Allgemeine Informationen
AZ® 303 MIC basiert auf KOH und NaOH und enthält starke Tenside. Es wurde für Positiv- und wässrige alkaliverträgliche Negativlacke entwickelt, kann aber auch für AZ® nLof 20XX Serie verwendet werden und ist das einzige TMAH-freie Developer für diese Resist. AZ® 303 Developer wird normalerweise 1:5 - 1:10 mit Wasser verdünnt.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 303 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 303 Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 303 Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 351 B Developer - 5.00 l
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AZ® 351B Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 351B Developer basiert auf gepuffertem NaOH und wird normalerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung (1 Teil Konzentrat und 4 Teile VE-Wasser) verwendet. die 1:3-Verdünnung ist die Hochgeschwindigkeitslösung, während die 1:4-Verdünnung für eine Hochkontrastlösung verwendet wird. Es kann besonders für unsere dünneren Resist Typen verwendet werden, wie z.B. AZ® 1500 Serie Resists oder Bildumkehrresists wie AZ® 5200E Resist Serie.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 351B Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 340 Developer - 5.00 l
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AZ® 340 Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® 340 Developer ist ein hochnormales Konzentrat auf Natriumbasis Developer für den Einsatz in kundenspezifischen Verdünnungsanwendungen vor Ort. Dieses Developer Konzentrat ist gepuffert, um eine längere Badlebensdauer und stabile Entwicklungsraten in Batch-Prozessen zu gewährleisten. Verdünne das Konzentrat mit 1 Teil AZ® 340 Developer auf 4 Teile VE-Wasser, um einen hohen Kontrast zu erzielen. Developer Normalität (und Entwicklungsrate) können bei Bedarf erhöht werden, indem das Verhältnis AZ® 340 Developer zu Wasser erhöht wird.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 340 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 340 Developer deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 340 Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
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Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer 1:1 englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer 1:1 deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® Developer 1:1 englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch