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AZ 400 K Dev 1:4 - 5.00 l

AZ® 400K Developer 1:4 is a buffered, KOH based developer formulation for many positive and image reversal resists.

Produktinformationen "AZ 400 K Dev 1:4 - 5.00 l"

AZ® 400K Developer 1:4

Anorganisch Developer

Allgemeine Informationen

Neben dem Konzentrat ist jetzt auch eine vorverdünnte AZ® 400K 1:4 Version erhältlich, andere Verdünnungsverhältnisse auf Anfrage.
AZ® 400K MIC Developer basiert auf gepufferter KOH und wird typischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung (1 Teil Konzentrat und 4 Teile DI-Wasser) verwendet und kann vor allem für unsere dickeren Resist Typen, wie AZ® 4562, AZ® 10XT und AZ® 40XT, verwendet werden.

Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Entwickler deutsch

TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Information AZ® 400K 1:4 Developer deutsch

Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch

Developer Type: inorganic, metal ion containing (MIC)

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AZ® 351B Developer Anorganisch Developer Allgemeine Informationen AZ® 351B Developer basiert auf gepuffertem NaOH und wird normalerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung (1 Teil Konzentrat und 4 Teile VE-Wasser) verwendet. die 1:3-Verdünnung ist die Hochgeschwindigkeitslösung, während die 1:4-Verdünnung für eine Hochkontrastlösung verwendet wird. Es kann besonders für unsere dünneren Resist Typen verwendet werden, wie z.B. AZ® 1500 Serie Resists oder Bildumkehrresists wie AZ® 5200E Resist Serie. Weitere Informationen MSDS: Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Developer englisch Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Entwickler deutsch TDS: Technisches Datenblatt AZ® 351B Developer englisch Anwendungshinweise: Entwicklung von Fotolack english Entwicklung von Fotolack deutsch
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