AZ 303 Developer - 5.00 l
Merck Performance Materials GmbH
AZ® 303 Developer is a KOH and NaOH based formulation with strong surfactants for aqueous alkaline developable resists.
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Produktnummer:
1000303
Hersteller:
Merck Performance Materials GmbH
Produktinformationen "AZ 303 Developer - 5.00 l"
AZ® 303 Developer
Metallionenhaltiger Developer
Allgemeine Informationen
Der AZ® 303 MIC ist ein auf KOH- und NaOH basierender Entwickler für Positiv- und Negativlacke.
Produkteigenschaften
Der AZ® 303 Developer basiert auf einer wässrigen KOH- und NaOH-Lösung und enthält starke Tenside. Er ist kompatibel mit Positiv- und Negativlacken und eignet sich daher z. B. auch als einziger nicht-TMAH-basierter Entwickler für die AZ® nLOF 2000 series. Der AZ® 303 Developer wird üblicherweise 1 : 5 - 1 : 10 mit Wasser verdünnt eingesetzt.
Weitere Informationen
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MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 303 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ ® 303 Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 303 Developer englisch
Anwendungshinweis:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch
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Allgemeine Informationen
Der AZ® 351B Developer ist ein mit Borsäure gepufferter, NaOH-basierter Entwickler für nicht-chemisch verstärkte Positivlacke.
Produkteigenschaften
Der AZ® 351B Developer eignet sich als NaOH-basierter Entwickler vor allem für die Entwicklung nicht-chemisch verstärkter Positivlacke mit Schichtdicken von wenigen µm. AZ® 351B kommt als Konzentrat und wird üblicherweise 1 : 4 mit Wasser verdünnt. Zur Erhöhung der Selektivität kann auch eine 1 : 5 - 1 : 6 Verdünnung gewählt werden, was jedoch die Entwicklungsrate deutlich verringert und daher bei dickeren Lackschichten keine sinnvolle Option ist. Bei geringen Anforderungen an die Kantensteilheit kann unter der Notwendigkeit höherer Entwicklungsraten der AZ® 351B auch schärfer (1 : 3.5 - 1 : 3) angesetzt werden, was jedoch zu einem überproportionalen Anstieg des Dunkelabtrag führt. Für Negativlacke oder chemisch verstärkte Positivlacke ist der AZ® 351B weniger geeignet, hier empfehlen sich TMAH-basierte Entwickler wie der AZ® 326 MIF, AZ® 726 MIF oder AZ® 2026 MIF. Der AZ® 351B greift Aluminium mit einer Ätzrate von - je nach Konzentration des Entwickleransatzes - mehreren 10 nm/min bis über 100 nm/min an. Falls dies nicht toleriert werden kann, kann der Al-kompatible AZ® Developer eine Alternative darstellen.
Weitere Informationen
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MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 351B Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 351B Developer englisch
Application Notes:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 400 K Developer - 5,00 l
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Allgemeine Informationen
AZ® 400K MIC basiert auf gepufferter KOH und wird in der Regel in einer Verdünnung von 1:3 bis 1:4 (1 Teil Konzentrat und 4 Teile VE-Wasser) verwendet. Es eignet sich besonders für unsere dickeren Resist Typen, wie AZ® 4562, AZ® 10XT und AZ® 40XT. Zusätzlich zum Konzentrat ist jetzt auch eine vorverdünnte AZ® 400K 1:4 Version erhältlich, andere Verdünnungsverhältnisse auf Anfrage.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 400K Developer englisch
Informationen AZ® 400K Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ Developer - 5.00 l
1000001
AZ® Developer
Anorganisch Developer
Allgemeine Informationen
AZ® Developer ist für einen minimalen Al-Angriff optimiert. Es ist eine geruchlose, wässrige, anorganische, alkalische Lösung, die mit Batch- und Inline-Entwicklungsprozessen kompatibel ist. Sie wird in der Regel 1:1 in DI-H2O verdünnt angewendet, um einen hohen Kontrast zu erzielen, oder unverdünnt, um eine hohe Entwicklungsrate zu erreichen. Der Dunkelabtrag von AZ® Developer ist im Vergleich zu anderen Developer etwas höher. AZ® Developer kann in Kombination mit den meisten AZ® Fotolacken verwendet werden (d.h. AZ® 1500, AZ® ECI3000 und AZ® 4500 oder AZ® PL177). AZ® Developer weist von allen AZ® Developer - Typen die niedrigste Aluminium-Ätzrate auf (sie ist mehr oder weniger gleich Null!) und ist ideal für Metallebenen.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch
AZ 400 K Dev 1:4 - 5.00 l
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Allgemeine Informationen
Neben dem Konzentrat ist jetzt auch eine vorverdünnte AZ® 400K 1:4 Version erhältlich, andere Verdünnungsverhältnisse auf Anfrage.
AZ® 400K MIC Developer basiert auf gepufferter KOH und wird typischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung (1 Teil Konzentrat und 4 Teile DI-Wasser) verwendet und kann vor allem für unsere dickeren Resist Typen, wie AZ® 4562, AZ® 10XT und AZ® 40XT, verwendet werden.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 400K 1:4 Entwickler deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 400K 1:4 Developer englisch
Information AZ® 400K 1:4 Developer deutsch
Anwendungshinweise:
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Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 340 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 340 Developer deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 340 Developer englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch
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Allgemeine Informationen
AZ® Developer 1:1 ist ein gebrauchsfertiges Produkt und ist eine 1:1 Verdünnung von AZ Developer. Die Developer ist für einen minimalen Al-Angriff optimiert. Es ist eine geruchlose, wässrige, anorganische, alkalische Lösung, die mit Batch- und Inline-Entwicklungsprozessen kompatibel ist. AZ® Developer 1:1 ist für hohen Kontrast. Der Dunkelabtrag von AZ® Developer 1:1 ist im Vergleich zu anderen Developer etwas höher. AZ® Developer 1:1 kann in Kombination mit den meisten AZ® Fotolacken verwendet werden (z. B. AZ® 1500, AZ® ECI3000 und AZ® 4500 oder AZ® PL177). AZ® Developer 1:1 weist von allen AZ® Developer 1: 1 Typen die niedrigste Aluminium-Ätzrate auf (sie ist mehr oder weniger Null!) und ist ideal für Metallebenen.
Weitere Informationen
MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer 1:1 englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® Developer 1:1 deutsch
TDS:
Technisches Datenblatt AZ® Developer 1:1 englisch
Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack englisch
Entwicklung von Fotolack deutsch