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AZ 303 Developer - 5.00 l

AZ® 303 Developer is a KOH and NaOH based formulation with strong surfactants for aqueous alkaline developable resists.

Produktinformationen "AZ 303 Developer - 5.00 l"

AZ® 303 Developer

Anorganisch Developer

Allgemeine Informationen

AZ® 303 MIC basiert auf KOH und NaOH und enthält starke Tenside. Es wurde für Positiv- und wässrige alkaliverträgliche Negativlacke entwickelt, kann aber auch für AZ® nLof 20XX Serie verwendet werden und ist das einzige TMAH-freie Developer für diese Resist. AZ® 303 Developer wird normalerweise 1:5 - 1:10 mit Wasser verdünnt.

Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® 303 Developer englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® 303 Entwickler deutsch

TDS:
Technisches Datenblatt AZ® 303 Developer englisch

Anwendungshinweise:
Entwicklung von Fotolack english
Entwicklung von Fotolack deutsch

Developer Type: inorganic, metal ion containing (MIC)

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