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AX 100 - 5.00 l

AX 100 is an acidic solution for activating and pretreating seed layers and metallic surfaces for electroplating.

Produktinformationen "AX 100 - 5.00 l"

AX 100

Aktivator

Allgemeine Informationen

AX 100 ist eine saure Lösung zur Aktivierung und Vorbehandlung von Keimschichten und metallischen Oberflächen für die Galvanik, auf denen eine direkte Metallisierung Probleme hinsichtlich der Haftfestigkeit verursachen kann. Dies gilt z.B. für die galvanische Abscheidung von Au auf Ni-Oberflächen oder die direkte galvanische Abscheidung auf Ti- oder TiW-Schichten.
AX 100 aktiviert metallische Oberflächen vor der galvanischen Abscheidung und ermöglicht eine bessere Haftfestigkeit von galvanischen Schichten auf metallischen Oberflächen, die zur Oxidation neigen.
Häufige Anwendungsgebiete sind die Halbleiterfertigung und die Mikrosystemtechnik.

Produkteigenschaften
  • Geringer oder kein Ätzangriff auf metallischen Oberflächen
  • Kompatibel mit vielen Materialien, z. B. mit den in der Galvanikindustrie üblichen Metallen
  • Kompatibel mit Resist Maskierung
  • Keine giftige Substanz und leicht zu handhaben
  • Mäßige Betriebstemperatur von etwa 40°C
Selektivität

AX 100 ist mit den folgenden Materialien kompatibel/selektiv:

  • Resists: gängige Novolak als Maskierungsmittel Resist (z.B. AZ® Photoresist)
  • Metalle: kein Angriff auf Ni, Ti, TiW, Ta, Cu
  • Halbleitermaterialien: Si, SiO2, Si3N4

Die Angaben zur Selektivität und Kompatibilität sind Herstellerangaben und erheben keinen Anspruch auf Vollständigkeit. Bitte kontaktiere uns für weitere Details.

Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AX 100 englisch
Sicherheitsdatenblatt AX 100 deutsch

TDS:
Technisches Datenblatt AX 100 englisch

Anwendungshinweise:
Weitere Informationen zur Verarbeitung

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